ELMO 780
フェムト秒エルビウム系ファイバーレーザー

MENLO SYSTEMS_Femtosecond_Fiberlaser_ELMO780_pic_3w

Specifications

機能と利点

高い安定性
低振幅、低位相雑音
偏波保持ファイバー解決策
シングルモードロック状態
Menlo figure 9^® 技術、60秒以内にレーザー出力
繰り返し周波数50-100 MHz
小型実装面積、追加のレーザードライバー不要

	ELMO 780	ELMO 780 HIGH POWER
中心波長	780 nm ± 10 nm	780 nm ± 10 nm
平均出力	>75 mW	>140 mW
パルス幅	<100 fs	<100 fs
出力ポート	空間光学系	空間光学系
偏光状態	直線、p-偏光**	直線、p-偏光**
分散補正	最長0.5 mの光ファイバーを備えた汎用性のあるピッグテイル型SHGモジュール*	最長0.5 mの光ファイバーを備えた汎用性のあるピッグテイル型SHGモジュール*
繰り返し周波数*	100 MHz (VARIOオプションで50-100 MHz)	100 MHz (VARIOオプションで50-100 MHz)
1560 nmでの補助出力ポート	ファイバー結合型、1560 nm, >180 mW, <0.5 m以内の外付けパッチコード後で90fsのパルス幅***
第2ファイバー結合型シードポート	可	可
第2高出力ポート	MULTIBRANCHオプションで可	MULTIBRANCHオプションで可

*ご要望の平均出力、パルス幅、繰り返し周波数、外部ファイバー長の組み合わせについてはお問い合わせください。

**汎用性のある小型第2高調波発生モジュールのs偏光での設置が可能です。

***追加パッチコードで780 nmと1560 nmの出力波長の変更が可能。

Description

Menlo Systemsのファイバーベースのフェムト秒レーザーは最新のファイバー技術の成果を用い、かつ使いやすい製品として開発されました。Menlo Systems独自のfigure 9®モードロック技術により再現性のある長期の安定した動作が可能になりました。ELMOは偏波保持ファイバーにより構成されており、優れた安定性と低雑音での動作を保証いたします。ELMO 780は、増幅器のシーディングの他テラヘルツ波発生、多光子励起、リソグラフィー技術、3Dマイクロプリンティングの用途にも最適です。モジュラーコンセプトと小型の周波数倍波モジュールにより、OEMインテグレーションに最適な汎用性の高いシステムです。全てのシステムはメインテナンスフリーで24時間365日作動、ボタンを１つ押すだけですぐに稼働します。

Options

VARIO ユーザー定義の繰り返し周波数

製品コード: VARIO
出荷時の設定値を50-100 MHzの範囲でお選びいただけます。
MULTIBRANCH Additional Seed Ports

Product Code: MULTIBRANCH

Seeding of multiple amplifiers with optional subsequent frequency conversion to cover multiple wavelengths

CONFIGURATIONS Detachable Options

1560 nm +/- 20 nm

>180 mW (typ. 21 0mW)

<70 fs (typ. 50 fs)

after external PM patchcord

fiber coupled output

Menlo ELMO780 Options 01

detachable patch cord

780 nm +/- 10 nm

>140 mW (typ. 165 mW)

<100 fs (typ. 85 fs)

detachable SHG module

free space output

Menlo ELMO780 Options 02

detachable SHG module

DISPERSION PRECOMPENSATION Compensation

Product Code: Dispersion precompensation
Dispersion precompensation to compensate dispersion of microscope objective and additional optics of up to 16.000 fs²